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1.中心加载力方式,一次性固定六个样品,完成全部研磨抛光过程,保证磨抛出各个样品的完整平面
2.独立控制磨抛盘和样品盘:转速、磨抛时间、转动方向、水阀关闭等全部磨抛参数;
3.触摸屏界面:磨抛参数设定方便,状态显示直观,操作简单;
4.加载力可以在运行中调整,灵活方便。
5.通过用电磁阀来控制水的通断。
6.轻松更换磁性防粘盘,就能完成各种试样的粗、精磨及粗、精抛光等所有工序, 一盘等效于N个盘。
7.精度高,运行平稳,噪音低。
8.样品磨去层厚度控制:精准控制样品的磨去量,磨到指定位置 (选配);
9.外部滴液器控制:外部滴液器的滴液速度及滴液材料 (选配);
规格 |
LAP-2000X |
工位 |
双盘 |
工作盘直径 |
标配φ254mm带有磁性转换盘系统 |
磨盘转速 |
100-1000转/分 转向正反转可以切换 |
研磨头转速 |
0-100r/min |
制样时间范围 |
0-9999s |
加载力范围 |
30-200N |
加载力方式 |
中心加载 |
样品夹持器 |
标配φ30mm六个(选配φ40-φ50mm四个,其余可定制) |
电源 |
AC220V,50HZ |
电机功率 |
0.75Kw |
外形尺寸(长*宽*高) |
760 x 730 x 700 |
重量 |
120kg |